大家好，今天这篇文章为大家整理了半导体设备上市公司股票名单。现阶段半导体芯片领域国产替代的技术能力，攻克14nm和28nm的技术，短期内是有可能的，而更高端的7nm和5nm甚至更高需要一步步来，在完善目前已有的技术能力之后再考虑。
半导体设备上市公司股票名单
硅片设备：制作硅片是芯片生产的第一个环节，设备是硅单晶炉；
A股上市公司：
晶盛机电，主营硅单晶炉，客户包括中环股份、沪硅产业，有研硅股。同时从硅单晶炉向切片，抛光，外延设备拓展。
热处理设备：对鬼片进行氧化，扩散，退火等工艺处理，包括立/卧式炉，快速升温炉等；
A股上市公司：
北方华创，不仅是热处理设备龙头，还是光伏，锂电，半导体硅刻蚀，薄膜沉积，清洗设备，第三代半导体设备生产商。
光刻设备：包括光刻机和涂胶显影机；
光刻机龙头国内主要看上海微电子，但该公司暂未上市；公司预计将在2021-2022年交付28nm光刻机，张江高科参与了上海微电子首轮融资。
A股上市公司：
茂来光学，已获科创板受理，是上海微电子核心供应商之一，主营精密光学器件，高端光学镜头，先进光学系统三类业务，覆盖深紫外DUV，可见光到远红外全谱段。
芯源微，国内涂胶显影设备市场上，日本东京电子占90%份额，芯源微占5%，我国唯一突破28nm技术的公司。近年切入湿法清洗设备领域，和盛美股份，至纯科技，北方华创等展开竞争。
蚀刻设备：蚀刻是硅片光刻之后的重要流程，包括硅刻蚀，金属刻蚀，和介质刻蚀设备；
A股上市公司：
中微公司，公司生产第二代电介质蚀刻设备已经应用于28nm到7nm后段制程以及10nm前段制程。北方华创的硅刻蚀机在14nm工艺上取得重大进展。
离子注入设备：硅片刻蚀后，需要将一些材质离子注入到硅衬底，这个设备就是离子注入机，设备技术难度仅次于光刻机；
A股上市公司：
离子注入设备龙头企业是万业企业旗下的凯世通，背后大股东是顶级科技创投势力之一的上海浦东科技投资公司。产品在12英寸圆晶厂商验证；中国电子科技集团旗下电科装备研制的28nm高能离子注入机在中芯国际12英寸生产线上使用。
薄膜沉积设备：分为物理气相沉积，化学气相沉积，和外延三大类；
A股上市公司：
北方华创物理气相沉积设备已经用于28nm生产线中，14nm工艺已获重大进展。沈阳拓荆的设备在中芯国际也有使用。
抛光设备：抛光机是在圆晶制造后期对硅片表面进行平坦化处理；
A股上市公司：
华海清科，处于科创板上市辅导中，客户有华虹半导体，上海新昇，长江储存等。
清洗设备：几乎所有工艺流程都会用到清洗环节；
A股上市公司：
盛美半导体是龙头，2017年在美国纳斯达克上市，现在科创板上市申请已获受理。国内清洗市场中，盛美占80%；其余份额由北方华创，芯源微，至纯科技瓜分。
检测设备：包括工艺检测设备，硅片测试设备，晶圆中测设备等，晶圆中测又包括探针卡，探针台，测试机等等；
A股上市公司：
赛腾股份，公司收购日本Optima进入半导体检测领域，Optima在晶圆边缘检测，晶圆正背面检测，宏观检测，针孔检测等圆晶缺陷产品检测设备上有成熟的产品线，技术储备在国内来说是稀缺的。
以上即是本期为为大家整理的半导体设备上市公司和股票名单了，我们下期再见。更多半导体股票请看这里：半导体股票汇总，半导体公司细分领域汇总名单